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　　光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，技术壁垒极高。成熟制程扩产无忧，先进制程有望突破，直接利好上游设备、材料。光刻机自主可控大势所驱。机构看好光刻机上游零部件具备投资价值。

　　9月1日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）表示，公司已向荷兰政府提出TWINSCANNXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请，目前已得到荷兰政府批准，允许2023年年底前继续发相关运光刻设备，履行签订的合同。ASML2000i以及后续型号可通过多重曝光进行最高7nm先进制程的芯片制造，我们认为这次解禁有利于国内先进制程芯片的扩产，利好具备先进制程芯片设计能力的Fabless、以及先进制程制造相关的设备厂商。但自2024年1月1日起，ASML或将迫于管制压力难以继续获得出口许可，这意味着光刻机等先进制程制造相关的设备国产化替代迫在眉睫，建议关注国内半导体设备国产化领域的相关标的。

　　光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，技术壁垒极高。同时也是最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。但国产的物镜系统已实现了工艺上的突破，超精密光学部件国产化虽然任重道远但是仍然值得期待。

　　光刻机作为“卡脖子”关键环节，也是市场关注的焦点。光刻机是半导体制造业皇冠上的明珠，技术壁垒极高。光刻（Lithography）技术是指在特殊波长光线或电子束作用下，借助光刻胶，将设计在掩膜版上的集成电路图形转移到基片（硅片）上的图形精密表面加工技术。光刻机是半导体设备中最昂贵、最关键、国产化率最低的环节，全球光刻机市场被荷兰ASML、日本佳能、尼康三大巨头垄断。光学系统是光刻机的核心，光刻机制程越小，对光学系统的精度要求越高，目前仅有少数公司（德国蔡司、日本佳能、尼康）具备光刻机超精密光学系统供应能力。

　　光刻机是光刻工艺的核心设备，是精密光学、精密运动学、高精度微环境控制、算法、微电子等先进技术的集大成者。光刻机的四大核心模组分别为光源模组、照明光学模组、光罩模组和晶圆模组。其中噪光系统、物镜、工件台等成本占比较高。伴随荷兰、日本、美国加大半导体设备出口限制，光刻机、光刻机光学零部件国产替代意义重大。估算中国光刻机光学部件市场达5亿美元，尽管目前蔡司在收入规模、研发投入、技术水平遥遥领先，但是中国光刻机设备崛起一定需要中国的“蔡司”。

　　高端光刻机市场ASML一家独大、国产光刻机曙光初显。根据SEMI数据测算，2022年全球集成电路用光刻机市场规模约180亿美元，中国大陆光刻机市场约30亿美元。从ASML、Canon、Nikon三家头部光刻机厂商出货机台数来看，ASML一家垄断高端EUV市场，在浸没式DUV设备（ArFi)、ArF光源DUV设备分别占95%、87%。2022年全球前三大光刻机厂商出货量达到551台，同增15%；市场规模达196亿美元，同增26%。从销售金额来看，ASML、佳能、尼康市占率为82%、10%、8%。四种主流i-line、KrF、ArF、体育半岛EUV光刻机中，EUV光刻机技术最先进、可用于10nm以下的先进制程，ASML在EUV光刻机市场为绝对垄断。

　　预计2022年中国光刻机市场规模达27亿美元，伴随荷兰、日本、美国加大半导体设备出口限制，光刻机国产化意义重大。国产光刻机的主要企业为上海微电子，其自主研发的600系列光刻机突破了外国光刻机卡脖子，可批量生产90nm工艺的芯片。早于“十二五期间”国家启动02专项，重点进行45-22nm关键制造装备攻关等项目。

　　台积电第一代7nm工艺N7是基于NXT:1980i+多重曝光（SADP/SAQP）实现的。光刻机性能的三大核心指标分别是分辨率（CD）、套刻精度（overlay）、和产率（throngput，wph）。ASML最新推出的先进浸没式DUV NXT:2100i，单次曝光的分辨率与1980Di保持一致，但套刻精度较1980Di有明显的提升，DCO（单设备套刻精度）从1.6nm提升至0.8nm，MMO（混合套刻精度）从2.5nm提升至1.3nm，产率从275wph提升至295wph。整体而言，更有利于实现多重曝光，且效率更高，体育半岛且2100i尤其适用于DRAM制造。我们认为，光刻机是目前国内最“卡脖子”的关键环节之一，本次延长先进光刻机出货，国内成熟晶圆厂可以顺利扩产，且先进制程突破可期；叠加近期华为Mate60的王者回归，也提振了板块的投资信心，建议积极布局半导体设备&材料环节。

　　尽管荷兰光刻机制裁的情况好于预期，但明年后，高端光刻机将断供；且据此前彭博社报道，ASML未来被限制为受控设备进行维护、修理和提供备件的隐忧仍在。在此情况下，无论是整机自研配套零部件，或是备件更换都会更多依赖国内零部件供应商。且光刻机零部件成本占比高、市场空间大，2022年ASML设备收入154亿欧元，产品相关的供应链支出86亿欧元，超过5成。从长期看，光刻机上游零部件依旧具备投资价值。